三菱マテリアルテクノ株式会社
NEW 職種解説 半導体装置研磨プロセス設計・開発
| 企業名 | 三菱マテリアルテクノ株式会社 |
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| 本社所在地 | 〒110-0016 東京都台東区台東1-30-7 秋葉原アイマークビル4F |
| 設立 | 昭和33年 |
| 従業員数 | 企業全体 1,028人 |
| 資本金 | 10億4,285万円 |
| 事業内容 | ・プラントエンジニアリング及びメンテナンス業 ・機器製造の設計・開発・製造業 ・環境資源における調査分析、評価、対策、コンサルタント業 |
| 雇用形態 | 正社員 |
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| 給与 |
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| 職種 | 職種解説 半導体装置研磨プロセス設計・開発 |
| 仕事内容 | (雇入直後) 当社長岡製作所にて、半導体関連装置の研磨プロセスにおける設計 ・開発業務をお任せいたします。 ・研磨プロセス(CMPなど)の設計開発 ・研磨条件(圧力、回転数、速度、スラリー、パッドなど)の検討 及び最適化 ・研磨結果の評価・解析及び課題抽出、改善提案、装置仕様・機構 設計へのフィードバック (変更の範囲) ・会社が指定する業務 |
| 勤務時間 | 就業時間1 8時00分〜17時00分 |
| 休日・休暇 | 休日 日曜日,祝日,その他 週休二日制 毎週 その他 会社カレンダーに依る 6ヶ月経過後の年次有給休暇日数 20日 |
| 募集人数 | 2人 募集理由 増員 |















定額的に支払われる手当(b):ライフプラン手当 25,500円〜25,500円 福利手当 10,000円〜10,000円
固定残業代(c):なし